多家外媒消息称，早在3月4日中芯国际从荷兰引入的一台大型光刻机，就已进入该企业深圳厂区工作运行，主要用于企业复工复产后的生产线扩容，从而稳固提升企业生产效率及营收。
不过从中芯国际有关负责人处证实，此次荷兰发货的光刻机并非是外界一直关注的极紫外光刻机（EUV），而是一台DUV常规设备。尽管没有EUV技术，但沉浸式DUV光刻机依然可以制造28nm到7nm之间的各种芯片，所以对于中芯国际而言仍然帮助巨大。
说实在的，对于我国一些科技企业而言，这台光刻机设备还远不能满足发展需求，所以极紫外光刻机仍是需要追求的目标。即便有外力阻挠，中芯国际等企业还是要想办法克服困难拿到一台极紫外光刻机。
据了解，2018年中芯国际就向荷兰阿斯麦尔（ASML）公司订购了一台最新型的极紫外光刻机，计划去年初交货。可惜的是，由于美国从中作梗，不断向荷兰施压导致这份价值1.5亿美元的合同迟迟未能履行。
只要相关半导体企业保持住现在刻苦钻研的势头，相信在不久的将来就能够突破美国设置的技术壁垒。道阻且长行则将至，未来“中国芯”必然会走向世界取得辉煌成就。
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