光刻机是半导体制造设备中价格占比最大，也是技术含量最高最核心的设备，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术，其设备投入相应最多，被誉为是半导体产业皇冠上的明珠，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。
中外光刻机差距巨大
光刻机被称为人类最精密复杂的机器，业界将其誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的5/7nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃EUV光刻机的研发。
目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场。ASML最先进的EUV光刻机售价曾高达1亿美元一台，且全球仅仅ASML能够生产。Intel、台积电、三星都曾经是它的股东，Intel、三星的高端光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。
我国要实现科技领域的崛起，要实现工业升级的大战略，必须要有过人的硬实力。这种硬实力的体现就是科技领域全方位的强盛。这种走向强盛的推力除了内部的自我鞭策，外力的主推也是一股不可忽视的力量。
回顾历史，在笔者看来我国在科技领域的重大突破大多与外部力量有关，如两弹一星的成功，军工领域的长足进步以及最近芯片领域的不断突破等。光刻机领域的发展在外部力量的倒逼之下，会引来更多的资源倾斜，该产业链的加速发展是值得期待的。