众所周知，随着中国制造向中国智能制造的转变，中国已经超过美国成为全球最大的芯片消费国，世界芯片制造产业也不可避免地向中国转移。虽然中国每年进口的芯片超过了3000亿美元，正在建设的晶圆厂也达到了57个，芯片产业发展得如火如荼，但是芯片制造最关键的环节光刻机却成了我国芯片产业的发展的死穴。因为中国只能生产90nm以上低端光刻机，而先进的高端光刻机都掌握在国外厂商手里，甚至有钱也买不到。
那么中国真的造不出高端EUV光刻机吗？答案是肯定的，目前我国确实造不出这样的高端EUV光刻机。虽然中ASML高调表示，即使没有美国的许可证也要卖给中国，但同时也表示：我们正在等待政府的许可证，如果最终等不到许可证，我们会将设备转卖给其他客户。由此看来，我们不仅造不出这样的高端EUV光刻机，即便想买到也没有这么容易，中芯国际订购的光刻机就是一个明显的例子。
目前，全球高端光刻机被ASML、尼康、佳能所垄断，2018年全球高端光刻机总计出货374台，其中ASML的高端光刻机销售量120台，10nm以下的EUV光刻机更是占据了全球100%的市场，甚至就连佳能、尼康几乎已经退出10nm以下光刻机的市场。但是中国芯片产业发展如火如荼，却没有高端光刻机的支持，这也是为什么中国芯片产业发展缓慢的原因之一。
虽然这台设备技术上前景很牛，通过多重曝光技术甚至可以生产10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必须要流程再造，但是有志者事竟成，毕竟商业化之路是很漫长的。尽管如此，这台光刻机的研发成功对我国光刻机进步的意义是不言而喻的，可以说是开辟了有别于国外光刻机的技术路径，实现了中国真正自主创新。