逆向工程碰门槛，光刻机比原子弹还难造？

众所周知，中国本土芯片厂商在引进最新的7nm等级先进光刻机时，不算一帆风顺。在之前的多篇文章中，不少读者在评论区表示：既然核武、航母、基建重工领域，中国可以通过引进+逆向开发模式打破众多技术壁垒，为什么不能把ASML的光刻机“复刻”出来？

3、技术和知识产权约束：简而言之，中国企业想要购买光刻机这一大国重器（也是地表最强印钞机），需要保证不得侵犯、破坏、影响ASML相关产品、知识产权的合法权益。逆向开发则是绝对被禁止的（你都学会了，我以后赚谁的钱去？）。

ASML CEO：彼得.温尼克（Peter Wennink）

这种类似先进武器、装备自毁装置的传感器设置，也是ASML为确保其光刻机全球独家垄断地位的“硬件装备”。

禁锢三：卖方市场的环境约束

机器买回来，拆开了，万一逆向开发失败怎么办？

相对于高铁技术、核能技术以及各类光机电产业而言，中国得以进行技术产品逆向开发的基础，就是“采购源”的可替代性。日本的高铁技术不行咱们可以上德国的，美国的核能技术不卖我们可以和法国谈。

这道坎的意义，近乎于“开战信号”。结合目前我国在自主光刻机领域的研发进程来看，至少在短期（5年左右）内难以轻松逾越。

禁锢四：供应链约束

机器买回来、拆开了、逆向开发成功，然后呢？

且不谈一台先进级光刻机所需的数以万计的核心零部件、技术难题、产业链国有化程度等问题，我们只谈光刻机核心构件之一——物镜系统。全球仅有德国的卡尔蔡司（Carl Zeiss）一家公司能够为它生产、供应光学镜头系统。

因此，作为民用消费级的摄影镜头即被如此铜墙铁壁般“保护”起来，可想而知作为光刻机物镜系统的光学镜头，又是何等保密级别的存在。

至于我国能否生产出媲美卡尔蔡司的光学镜头，这一点我想摄影圈的朋友们早已知晓答案。我国在先进光学镜头及自动对焦方面的技术积累，目前还是暂且不够的。

物镜系统只是光刻机三核心之一，其他各类处于相关各国严格技术保密、专利禁止转让级别的产品、知识产权还有很多，这些都是对光刻机进行逆向开发所要面对的重重难题。

总结

本文写这么多，并非是为涨别人志气灭自己威风，说到底是希望更多爱国民众可以了解光刻机领域的现状，以及我国芯片产业目前所处的环境和角色。光刻机的国产化是历史必然，但现在仍是我国芯片行业所涉各产业链、各环节、各公司潜心学习、循序前行、经验积累的阶段。

国际竞争瞬息万变、永不停歇，在适当的时间节点迅速适应环境、调整自身角色和心态才是做有用功。先进光刻机的逆向开发，是否就是适合我国的最佳路线？这也并非是一条必须打破头走到底的单线思维，相信我们的科研力量、相信国家的政策扶持，只要付诸努力，必然有所收获。

附注说明：

• 我国在5nm蚀刻机所获得的重大进展，不等于具备5nm芯片的生产能力；
• 具备本土完全自主知识产权和产业链供给的国产光刻机，制造工艺为90nm；
• 华为海思、中芯国际均具备芯片研发能力，但前者为Fabless企业，不具备芯片生产能力，而后者具备28nm、14nm等先进晶圆生产线；
• 中国本土内最先进的光刻机，是海力士（韩国）无锡厂的7nmEUV级产品，并非我国所属；
• ASML在2019年交付26台光刻机，2020年将交付35台，2021年预计为50台左右；
• ASML先进级光刻机单台售价约1亿美元以上；
• 荷兰希望和中国好好做生意；
• 光刻机比原子弹、核航母还难造。

参考阅读：

• 中芯国际痛失EUV光刻机，7nm之路命运多舛
• 国产顶级光刻机滞留90nm工艺，中芯、长江、华虹手里全是荷兰ASML
• 荷兰ASML首席执行官证实：中芯国际光刻机仍未获出口批准

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