而中芯国际制造7纳米芯片所用的关键设备，机则是重中之重，可以说没有这台EUV光刻机，中国整个7纳米半导体的研发进程将会受阻。

不同纳米级的光刻机决定了芯片的制造精度其功能也受此影响。所以不同纳米级的光刻机决定了不同精度芯片的制造。中国想要攻克7纳米级芯片，必须首先研发出7纳米级的。

中国近日提前成功攻克了2纳米芯片研发制造的关键技术。