1月20日，近期市场阴风再起，传闻美国政府考虑限制中国从美国获取半导体方面的技术，并企图阻挠荷兰阿斯麦公司向中国出售产品。虽说此消息空穴来风，且光刻机供应商ASML的极紫外光（EUV）光刻机，主要用于7nm及以下的工艺开发，短期对国内主流先进工艺28nm以及中芯国际目前研发14nm的影响不大，但光刻机作为半导体制造业中最核心的设备，是我国发展国产芯片的关键，未来高端芯片制造的发展绝不能受制于人，现阶段逐步实现光刻机设备及相关材料的突破已然至关重要。